发布时间:2014-11-27 21:22:00 点击:
光解除臭设备工作原理
一、光解除臭设备利用特制的高能高UV紫外线光束照射恶臭气体,裂解恶臭气体如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯、二甲苯的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,降解转变成低分子化合物,如CO2、H2O等。
利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键,破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的。
二、光解除臭设备利用高能高UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。
UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用,对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。
三、恶臭气体利用收集排风设备输入到本净化设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束、臭氧O3及纳米光催化TiO2等技术组合起来对废气进行协同分解氧化反应,使废气降解转化成无害无味化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出。