发布时间:2015-04-13 22:53:00 点击:
一种除臭杀菌装置和方法,其增加量的产生的活性物种和收集的浮游细菌或气味物质在空气中在一个地方,这样的活性物种与收集的浮游细菌或气味的材料接触实现高效杀菌、除臭。设置一对电极,等离子体放电施加指定的电压的电极之间进行流体通过孔,并在各自电极对应的部分以便相互沟通,和至少一个吸收件吸收漂浮细菌或气味的材料设置在一个流体通过下游通过流体通过孔。
1。一种除臭杀菌装置,该装置包括:一对电极进行等离子体放电施加指定的电压的电极之间,其中流体通过孔设置在各自的电极对应的部分以便相互沟通,和至少一个吸收件吸收漂浮细菌或气味的材料设置在一个流体通过下游通过流体通道孔。
2。除臭设备的方法1,其中空气离子数密度对至少一个吸收部件的表面或周围的至少一个吸收构件表面约10000 /厘米2以上。
3。除臭设备的方法2,进一步包括吹风装置强行空气吹向流体通过孔和产生的气流从流体通过孔向至少一个吸收会员。
4。除臭设备的方法3,其中吹气装置强制送风的方向相反的流体通道孔和产生的气流从相反的方向的流体通过孔的至少一个吸收会员。
5。除臭设备的方法4,其中至少有一个吸收构件包括多个通过空气吹向孔。
6。除臭设备的方法5,其中至少有一个吸收会员包括吸收形成硅胶,活性碳,沸石,介孔二氧化硅,或它们的组合。
7。除臭设备的方法6,其中至少有一个吸收部件被保持在一网式底座吸收形成。
8。除臭设备的方法1,进一步包括紫外灯,相邻的至少一个吸收部件,用于杀菌和除臭的附属单位。
9。除臭设备的方法1,其中至少有一个吸收会员浸渍有催化剂和紫外线灯照射紫外线的光线。
10。除臭设备的方法7,进一步包括一个防爆装置包括防护罩设置在电极的对外防止引入到流体通道孔的等离子体传播给外面的保护盖所产生的可燃性气体火焰,其中吸收设置在防护罩。
11。除臭设备的方法10,其中有多个吸收成员具有不同的吸收特性。
12。除臭设备的方法11,其中,在一个脉冲电压被施加到相应的电极和在约100v 5000V和脉冲宽度范围内的约0.1μ的300μ美国范围最大值
13。除臭设备的方法12,其中的直流偏置电压大约在−500V范围+ 500V应用于应用于各电极电压。
14。除臭设备的方法13,进一步包括:多个流体通道孔对应于该对电极;一路形成构件形成路径的流体通道的多个孔彼此沟通,和空气通过多个孔连通的流体通道;和流体通道的孔路的一端被路形成构件,所形成的空气吹向上游和另一流体通道孔的路形成构件,在路的另一端所形成至少一个吸收会员。
15。除臭设备的方法14,进一步包括:导论路形成构件引导活性物种通过流体通道孔的至少一个吸收会员设置流体通道孔和至少一个吸收会员之间,其中引入路径形成件具有一支挡结构保持活性物种。
16。除臭设备的方法15,进一步包括:吸收模式,其中电压的等离子体电极单元停止应用程序允许至少一个吸收件吸收漂浮细菌或气味的材料;和分解方式,其中电压是吸收的方式,由等离子体产生的活性种对供应至少一个吸收会员后应用于等离子体电极单元。
17。除臭设备的方法16,进一步包括设置在吸收部件的下游检测吸收件的吸收能力和执行的吸收方式和分解模式之间切换模式的传感器,通过检测结果。
18。除臭和杀菌方法,该方法包括:制备一对电极进行等离子体放电施加指定的电压的电极之间,其中流体通过孔设置在各自的电极对应的部分以便相互沟通,和至少一个吸收件吸收漂浮细菌或气味的材料设置在一个流体通过下游通过流体通道孔。
19。除臭设备的方法18,其中空气离子数密度对至少一个吸收部件的表面或周围的吸收构件表面约10000 /厘米3以上。
20。除臭设备的方法19,其中空气从向至少一个吸收会员使用吹风强行吹空气向流体通道的流体通道孔吹孔装置。
21。除臭设备的方法20,其中空气从相反方向的流体通道孔吹到至少一个吸收会员使用吹气装置。
22。除臭设备的方法21,其中吸收会员包括吸收形成硅胶,活性碳,沸石,介孔二氧化硅,或它们的组合。
23。除臭设备的方法22,其中,在一个脉冲电压被施加到相应的电极和在约100v 5000V和脉冲宽度范围内的约0.1μ的300μ美国范围最大值
24。除臭设备的方法23,其中的直流偏置电压大约在500到500V范围适用于适用于各电极电压。
25。除臭和方法18,灭菌方法进一步包括:停止电压对电极的应用;吹空气允许至少一个吸收成员吸收漂浮的细菌和异味的材料。
26。除臭设备的方法25,进一步组成的电极的至少一个吸收会员供给活性物种对施加电压。
27。除臭设备的方法26,进一步包括检测的吸收件的吸收能力。
28。一种除臭杀菌的方法,该方法包括:增加产生的活性物种;混合产生的浮游细菌或气味的物质的活性物种,如活性物种与浮游细菌或气味物质接触;和收集的浮游细菌或气味的材料在空气中的一个位置,以便消毒除臭。
29。权利要求28中的方法,其中一个位置包括设置在流体通过下游通过流体通道孔的吸收构件。